紀念館因其特殊歷史文學與愛國教育意義，在近年來受到了大眾越來越多的關注與重視，特別是在展示展覽技術進步后，紀念館展廳設計也在不斷發(fā)生變化。各種高大上的展示技術不僅帶來在展示手法上的進步，更帶動了游客的參觀熱情。而對于紀念館展廳設計而言，其布展設計需求上，究竟需要注意哪些原則呢？

一、根據(jù)紀念內(nèi)容為主基調(diào)進行設計

不同的紀念館其所呈現(xiàn)的重點及紀念的意義也會有很大的不同，尤其如特定意義內(nèi)容的紀念，需要融合相對應的基調(diào)呈現(xiàn)，因而專業(yè)提供紀念館設計公司在進行設計前都會深入紀念內(nèi)容的來源、想要紀念的意義等內(nèi)容進行主基調(diào)的確定從而有效確保紀念館設計公司后續(xù)的所有設計都能圍繞著主基調(diào)進行開展。

二、注意細節(jié)內(nèi)容的考量

在一定程度上紀念館所承載的內(nèi)容量比普通的室內(nèi)設計要多的多，因而紀念館設計公司在具體的設計過程中需要更為注意細節(jié)內(nèi)容的考量，通過細節(jié)與紀念價值的整合，才能更好的發(fā)揮出紀念的綜合意義，才能為紀念館整體品質(zhì)的展現(xiàn)加分。

三、注意審美色彩的匹配

色彩的搭配是任何設計都需要重視的內(nèi)容，但對于紀念館設計而言，色彩的選擇則不僅僅建立在審美的前提下，還需要結合紀念內(nèi)容進行色彩的把控，因而紀念館設計公司在設計過程中會對紀念館所承載的歷史意義進行梳理，慎重顏色的選擇和搭配。

總之紀念館展廳設計并非易事，其所涉及的內(nèi)容面廣，應建立在全面了解紀念意義的基礎上開展，并在合作開展過程中盡可能的多溝通多進行意見交換和進度咨詢。

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